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CEW-2000型半轴荧光磁粉探伤机


产品详情

设备名称:

CEW-2000型半轴荧光磁粉探伤机

概述:

CEW-2000型半轴荧光磁粉探伤机系机电一体式半自动荧光磁粉探伤设备,由电源控制系统、夹持磁化系统、磁悬液系统、荧光系统等几大部分组成。适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的小型管、轴棒类等零件的表面及近表面因铸造、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。

    本设备采用手动、自动两种运行方式,由可编程控制器(PLC)集中控制。手动时,可进行每个功能的单步独立操作;自动时,设备自动执行PLC内部程序,工件上料到位夹紧后,按“启动”键即可自动执行转动喷淋——磁化——转动观察等一系列动作。周向磁化采用直接通电,纵向磁化采用两组线圈,具有良好的磁化效果。复合磁化在工件上形成旋转磁场,一次性全方位显示磁迹,具有较高的工作效率。

主要技术参数:

1、 周向磁化电流:AC 0-2000A有效值,连续可调;

2、 纵向磁化磁势:AC 0-12000AT有效值,连续可调,

                    DC 0-6000AT半波两倍于平均值, 连续可调;

3、 磁化灵敏度:15/50A 1型试片显示清晰;

4、 暂载率:≥30%;

5、 电极间距: 400-1100mm,连续电动可调;

6、 工作方式:手动、自动运行;

7、 磁化方式:周向、纵向、复合磁化;

8、 电极间距调整方式:电动;

9、 夹紧方式:气动;

10、 退磁方式:自动衰减式退磁;

11、 周向退磁电流:AC 2000-0A,有效值,连续可调,

纵向退磁磁势:AC 12000-0AT,有效值,连续可调,

                DC 6000-0AT,平均值,连续可调;

12、 交流充退磁效果:≤160A/M(0.2mT);

13、 紫外线强度:距光源380mm工件表面处≥1000μW/㎝²;

14、 电源:三相四线380V±10% 50HZ      最大瞬时100A;

15、 外形尺寸:2200(长)×700(宽)×1600(高)mm;

16、 重量:约1000Kg。

探伤原理探伤原理:

周向磁化采用直接通电,电流沿工件轴向通过,在工件上产生周向磁场,假如存在与磁通线相交的裂纹或近表面缺陷,则在裂纹两侧立即产生N和S两磁极,部分磁通进入附近的空间,形成能吸附磁粉和裂纹指示的泄漏磁通场,由此可检测工件上的纵向裂纹。用线圈法对工件纵向磁化,产生轴向磁场,同理,可检测工件上的周向裂纹。同时施加周向和纵向磁化电流,即复合磁化,在工件表面和近表面形成交变的旋转的矢量磁场,在连续法探伤检查时,可检测工件表面和近表面各个方向的裂纹和缺陷。